半导体超纯水设备 保障半导体高质量发展

谈论起超纯水的复杂工艺,涉及多门学科,包括物理、化学、光化学、机械、空气动力学等,依各种原水水质和客户要求的不同,超纯水的制备工艺大体分为预处理、初级制备和抛光处理三个步骤。整个制造过程中采用的工艺技术复杂而精细,不容偏差,制备难度涉及至少18个关键工艺环节。

预处理:MMF多介质过滤器 + ACF活性炭过滤器(常规处理方式)、MF微滤+UF超滤(新型处理方式)

初级制备:2B3T两床三塔 + RO反渗透膜 + MB混床(常规处理方式)、两级RO+EDI连续电解除盐(新型处理方式)

抛光系统:TOC UV紫外线降TOC + PMB抛光混床 + MDG 脱气膜装置 + UF终端超滤

高频科技 超纯工艺的实践者和赋能者

近年来,伴随芯片市场的崛起,也为超纯工艺技术企业带来广阔的机遇与挑战,高频科技不断探索超纯水的绝对纯度,从多介质过滤、活性炭吸附、离子交换、反渗透膜、紫外线杀菌、紫外线TOC去除,再到电渗析、超滤、钠滤、真空脱气塔、膜脱气等,涵盖不止于18项专业处理工艺环节不断提升超纯水系统的应用效率,并在反渗透、离子交换、膜脱气、紫外线杀菌和TOC降解等多项关键技术产品材料中也有着行业性的应用创新成果。高频科技产水水质接近绝对纯度,电导率无限接近18.2兆欧的理论极限值,其纯度可达99%,不断满足半导体行业日趋提升的用水需求,并以此塑造了强大的行业技术壁垒,在国内超纯工艺领域中厚积薄发,生根发芽。