半导体用水设备的处理系统及工艺流程

半导体用水主要是介于导体和绝缘体之间的水处理材料，在半导体价格的进程中需要对用水进行处理，该水质的要求较高，不能在含有各种离子杂质的水进行使用。半导体工业纯水设备采用先进的制水技术，能够有效去除水中的大量杂质，保证设备的出水水质。

半导体行业用水的主要要求用于高级的技术工业生产过程，尤其作为半导体这些方面要求较高的技术行业，对于水质的需求也是非常严格的。半导体水质金属离子包含K+、Na+、Mn2+等等金属离子含量都在大幅度降低PPB级别之下，电阻率需要在18.2以上，水质的杂质原子都需要对产品造成极大的影响。

半导体用水的制备预处理系统：一般情况下源水都采用难以满足超纯水的要求，超纯水以及制备过程中，进行水处理设备预处理工艺流程，能够大幅度降低水质，能够去除水中的悬浮物以及各类杂质有机物。氧化主要是根据去除生物讲解以及有机物和氨氮物。能够吸附同样能够去除水中大量杂质。

　　半导体用水工艺：

　　1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

　　2、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象

　　3、 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象