半导体用水设备的处理系统及工艺流程

半导体用水主要是介于导体和绝缘体之间的水处理材料,在半导体价格的进程中需要对用水进行处理,该水质的要求较高,不能在含有各种离子杂质的水进行使用。半导体工业纯水设备采用先进的制水技术,能够有效去除水中的大量杂质,保证设备的出水水质。

半导体行业用水的主要要求用于高级的技术工业生产过程,尤其作为半导体这些方面要求较高的技术行业,对于水质的需求也是非常严格的。半导体水质金属离子包含K+、Na+、Mn2+等等金属离子含量都在大幅度降低PPB级别之下,电阻率需要在18.2以上,水质的杂质原子都需要对产品造成极大的影响。

半导体用水的制备预处理系统:一般情况下源水都采用难以满足超纯水的要求,超纯水以及制备过程中,进行水处理设备预处理工艺流程,能够大幅度降低水质,能够去除水中的悬浮物以及各类杂质有机物。氧化主要是根据去除生物讲解以及有机物和氨氮物。能够吸附同样能够去除水中大量杂质。

  半导体用水工艺:

  1、预处理-反渗透-水箱-阳床-阴床-混合床-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-精密过滤器-用水对象

  2、预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象

  3、 预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密过滤器-用水对象

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