半导体超纯水设备如何进行清洗

半导体超纯水设备应当如何进行清洗呢？在半导体行业中，超纯水设备采用先进的反渗透处理技术，以及后级超纯化技术，能够确保出水水质满足超纯水要求。设备整体采用先进的不锈钢材质，抗腐蚀能力强，同时也不会出现生锈问题。

半导体清洗超纯水设备工作原理

Edi模块中被分为了阴阳离子树脂，树脂中经过离子交换法将经过的浓水转化为纯水或是超纯水（取决于树脂的过滤级别）。EDI纯水电阻率可以高达18MQ.cm(25℃),但是根据去离子水用途和系统配置设置，EDI纯水适用于制备电阻率要求在1-18. 2兆欧.cm(25℃)。

半导体清洗用超纯水设备制备工艺

1、预处理系统反渗透系统一中间水箱粗混合床精混合床纯水箱纯水泵紫外线杀菌器抛光混床精密过滤器用水点。

2、预处理反渗透中间水箱水泵ED1装置纯化水箱一辣水系一紫外线杀菌器一随光溉床0. 2或0. 5μ=精密过滤器用水点。

3、预处理一级反渗透加药机（PH调节）中间水箱第二级反渗透（正电荷反渗膜）纯水箱纯水泵EDI装置紫外线杀菌器0. 2或0. 5μm精密过滤器用水点。

4、预处理反渗透中间水箱水泵EDI装置一纯水箱纯水泵紫外线杀菌器0. 2或0. 5μ=精密过滤器用水点。

5、预处理系统一反涉透系统一中间水箱纯水泵一相混合床精混合床紫外线杀菌器一精密过滤器一用水点。